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金融界2025年7月7日消息，国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法”的专利，公开号CN120255261A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，一种光学邻近修正方法，包括：提供初始版图，所述初始版图包括若干主图形；在所述主图形的外围生成若干第一辅助图形，生成中间版图；基于所述中间版图获取图形密度；根据所述图形密度，采用考虑图形密度的光学邻近修正模型进行光学邻近修正，生成修正版图。由于最终形成的曝光版图中存在所述第一辅助图形，因此在进行所述光学邻近修正之前添加所述第一辅助图形，并在计算所述图形密度时同时考虑到所述主图形和所述第一辅助图形，使得计算获取的所述图形密度与曝光版图中的真实图形密度趋于一致，进而在采用考虑图形密度的光学邻近修正模型能够调用更加准确的图形密度进行光学邻近修正，以此提升光学邻近修正的精度。

天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目903次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。

来源：金融界

发布于：北京市

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